微电子工业全球标准
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本文件将深入了解目前已知的锡晶须形成背后的理论,并基于这一知识,提出可能推迟或防止锡晶须形成的潜在缓解措施。还将简要讨论各种缓解做法的潜在效力。提供了每个理论和缓解实践背后的参考资料。
委员会(s):JC-14,jc - 14.1
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